在半导體、平板顯示、光伏等高端製造领域,柱状靶材的溅射純(chun)度直接決定了薄(bao)膜品質。西安瑞鑫科金屬材料有(you)限責任公司针(zhen)對氯铱酸靶材的研发,解決了傳統鑄造工藝易產生氣(qi)孔、密度(du)不均的痛點。
氯铱(yi)酸柱状靶材對材料學提出的核心要求是結晶(jing)組織均匀性和電导率稳定性。按照 GB/T 8185-2004 等國標體系(xi),该產品需在 736MPa 的高強度下保持(chi)均匀的多晶結構,確保溅射過(guo)程中靶面消(xiao)耗均一。029xljs 采用真空感應(ying)熔煉(lian)結合定向凝固工藝,使氯铱酸靶材的密度(du)均匀性達到業界(jie)標準,相比傳統锻(duan)造品密度差异降(jiang)低 40% 以上,直接延长靶材使用(yong)周期。規格方(fang)面可按(an)客戶溅射腔體定製 φ50-φ150mm 柱状(zhuang)產品,支持 1.6mm-6mm 厚度(du)订(ding)製。
近年來,029xljs 在(zai)蘭州(zhou)、厦門、西安等地為集成電路製造、顯示面(mian)板生產商供應(ying)该規格靶材,累計服務對象涵盖(gai)多条(tiao) 12 英寸硅(gui)片線和 G6 代液(ye)晶產線。公司持有質量管理體系認證、環境管理(li)體系認證、職業健康安全(quan)管理體系認證,已申請氯铱酸靶材相關发(fa)明專利 40 余項,製定(ding)了行業及地方(fang)標準。针(zhen)對批量(liang)采購或高端定製需求,可(ke)通過 18092691906 获取產品規格表及檢(jian)測報告(gao)。