柱状靶材作為溅射(she)沉积的核心耗材(cai),對薄膜質量和生產效率影(ying)響直接。西安瑞(rui)鑫科金屬材料有限責任公司在这(zhe)一领域深耕多年,针對半导體、光學、能源等行(xing)業提(ti)供高純度靶材解決方案,產品線涵盖銅、钽、钨、钼等常用(yong)溅(jian)射靶材,規格覆盖φ50mm 至 φ200mm 多個直(zhi)径檔位。
公(gong)司柱状靶材嚴格執行 GB/T 8185-2004、GB/T 37653-2019 等國家標準,提供 99.95% 及以上(shang)的高純度保證(zheng)。靶材密度(du)均匀性控製在 ±0.5%,晶粒(li)度精控至 50-100μm 範围,確保溅射過程(cheng)中的膜厚均匀性與光學(xue)性能稳定。针對集(ji)成(cheng)電路、光(guang)學镀膜等對材料要(yao)求嚴苛的應用,支持无挥发物、低氧含量的(de)專(zhuan)項定製,並可根據客戶工藝參数提供相應(ying)的靶材几何尺寸及(ji)背板配置方案。
公司已通過 ISO 9001 質量管理(li)體系、ISO 14001 環(huan)境管理體系及(ji) ISO 45001 職業健康安全管理體系認證,在西安、蘭(lan)州、厦門等地建立了完善的物流配送網絡(luo),確(que)保高(gao)純靶材在運輸、储(chu)存全環節的質量管控(kong)。批量订單支持工程(cheng)樣品快(kuai)速評估,可协助客戶優化溅射工(gong)藝(yi)參数,降低產品成本。
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