柱状靶材與氢氣純化材料是高端裝備製造中的關键(jian)基礎(chu)材料,西安瑞(rui)鑫(xin)科金屬材料有限責任公司在这兩個领域的耦合應用中积累了深厚的工藝基礎。柱状靶材(cai)用(yong)於PVD/CVD 薄膜沉积,對材料純度、晶(jing)體結構均匀(yun)性要求極高;同時產生的工藝氣體需要經過專業的氢氣純(chun)化(hua)器件處理,才能保證沉(chen)积膜層的品質(zhi)稳定性。
我們的柱状靶材系列按GB/T 37653-2019 規範生產(chan),密度(du)均匀、氣孔(kong)率控製在行業先進水平,廣泛應用於(yu)半(ban)导體、光學镀膜、太阳能電(dian)池等精(jing)密製造工藝。配套的(de)氢氣純化裝置采用專有的吸(xi)附+催化剂复合工藝,可將工業氢(qing)氣中的水分、氧(yang)化物、烃類雜質降至 PPM 級別,直接支撐溅射和化(hua)學氣相沉积的嚴苛環(huan)保要求。这套材料體系已在西安、蘭州、厦(sha)門地區的数個國家及省市重(zhong)大項目中驗證,部分客戶實測镀膜良率相比(bi)通用產(chan)品提升 8-12%。
公司持有質量管理體系、環境管理體系、職業健康(kang)安全管理體系三大認證,並获陕西(xi)省"專精特新"中小企(qi)業認定(ding),已申(shen)請(qing)发明專利 40 余項。如果您的(de)工藝涉及柱状靶材選型或氢氣純化器(qi)件配套,欢(huan)迎致電 18092691906 提供工(gong)藝參数,我們可根據沉积設備與產品規格做定製(zhi)匹配(pei)方案。